Òxid de silici

Descripció

Òxid de silici SiO₂,també conegut com a diòxid de silici, sílice i quars, una pols blanca i inodora, CAS No.7631-86-9, punt de fusió 1710 ° C, densitat 2,2-2,6 g/ml, poc soluble en aigua, és una mena d'índex baix. material utilitzat més àmpliament que qualsevol altre compost cristal·lí.Òxid de silici d'alta puresa SiO₂ es purifica a 5N 99,999% de pols de micres que és estable en la naturalesa química.Nanopartícules d'òxid de silici SiO₂ El 99,9% de la mida de 7 nm i 20 nm és una pols esfèrica blanca, amorfa, insípida i lliure de contaminació, que posseeix moltes característiques especials, com ara l'efecte de mida quàntica, l'efecte superficial, l'efecte túnel macroquàntic.Òxid de silici SiO₂ a Western Minmetals (SC) Corporation es pot lliurar en una mida de -200 + 500 malla en pols submicron i pols nano de 7 nm o 20 nm en paquet de 25 kg en tambor de cartró amb bossa de plàstic a l'interior, o com a especificació personalitzada per a les solucions perfectes.

Aplicacions

Òxid de silici d'alta puresa SiO₂o sílice o quars, pols de micres de puresa del 99,999%, s'utilitza principalment per produir vidre òptic, vidre de quars, fibra òptica per a telecomunicacions, instrument òptic, gresol czochralski, peces de màquines de quars, recobriment òptic i materials de recobriment de pel·lícula fina, components electrònics, lubricants, agents anti-adherència, agent antiespumant, etc. SiO₂també es pot utilitzar en recobriments multicapa per a miralls làser, recobriments antireflexos, divisors de feix i condensadors de pel·lícula prima.Nanopartícules d'òxid de silici SiO₂El 99,9% és per a la preparació de catalitzadors, filtres, medicaments, material d'envàs electrònic, medi magnètic, compostos reforçats amb fibra, ceràmica, cosmètics, materials antibacterians, etc.