Company History

1997

Cofundada per Mixed Ownership
(Institució de Recerca en Metal·lúrgia/Fusió/Sector Privat)
Creació de la divisió de materials d'alta puresa
1999

Antimoni/Tel·li/Cadmi/CZT 5N-7N als EUA
2001

Certificació ISO9001:2000
Creació de la Divisió de Semiconductors de Silici i Compostos
Hòstia de silici de 2 "-6" a EUA/Corea del Sud/UE/Taiwan
La hòstia FZ NTD admet amb èxit la fabricació de dispositius d'alimentació
2002

Tel·li/cadmi/sofre 5N-7N al Japó/França/Canadà
Creació de la Divisió de Material Avançat
Funció de pols de carbur de tungstè/RTP a la UE/Japó/Corea del Sud/EUA
2003

Creació de la divisió Chem-Met
Òxids de terres rares/metall a Anglaterra/Rus/Japó
Actualització tecnològica d'òxids Bi2O3/TeO2/ In2O3/ Co2O3/ Sb2O3 4N 5N puresa Li2Co3 99,99% a Canadà, Japó, EUA
2007

Anàlisi feta per instrument GDMS introduït des dels EUA
Substrat GaAs a Alemanya/Israel
Arsènic/Zinc/Tel·li/Cadmi/CZT 6N 7N a França/Corea/Israel
2013

Certificació ISO9001:2008
InSb/InP/GaSb al mercat del Japó/Alemanya/EUA
2015

Reorganitzat a Western Minetals (SC) Corporation
Certificació ISO9001:2015
La divisió de màrqueting internacional creada per a l'aprovisionament comercial de la Xina
2016

Funcionament de subsidència de compostos metàl·lics
CdMnTe/SIN/AlN Disc/grum a Alemanya/EUA
2018

Semiconductor compost avançat SiC/GaN 3G completat a les nostres instal·lacions
Expansió de capacitat d'antimoni 5N-7N per a dopatge/aliatge/compostos d'alta puresa
Present